Nanoscribe推出雙光子3D打印機(jī) 可制造200微米光學(xué)元件

Nanoscribe是一家德國(guó)雙光子增材制造系統(tǒng)制造商，2019年6月25日，記者從外媒獲悉，該公司近日推出了一款新型的機(jī)器Quantum X。該最新系統(tǒng)使用雙光子光刻技術(shù)制造納米尺寸的折射和衍射微光學(xué)元件，其尺寸可小至200微米。

根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSO Michael Thiel博士的說(shuō)法，“Beer's定律對(duì)當(dāng)今的無(wú)掩模光刻設(shè)備施加了強(qiáng)大的限制， Quantum X采用雙光子灰度光刻技術(shù)，克服了這些限制，提供了前所未有的設(shè)計(jì)自由度和易用性， 我們的客戶正在微加工的最前沿工作。“

Nanoscribe成立于卡爾斯魯厄理工學(xué)院，現(xiàn)在在上海設(shè)有子公司，在美國(guó)設(shè)有辦事處。該公司在財(cái)務(wù)和技術(shù)上獲得了蔡司的大力支持，蔡司是德國(guó)歷史最悠久，規(guī)模最大的光學(xué)系統(tǒng)制造商之一。

納米標(biāo)記系統(tǒng)基于雙光子吸收，這是一種分子被激發(fā)到更高能態(tài)的過(guò)程。為了使用雙光子工藝制造3D物體，使用含有單體和雙光子活性光引發(fā)劑的凝膠作為原料。將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體，其中吸收的光的強(qiáng)度最高。

Photonic Professional GT是Nanoscribe此前推出的一款產(chǎn)品，在科學(xué)研究中得到了廣泛的應(yīng)用，并在哈佛大學(xué)納米系統(tǒng)中心，加州理工學(xué)院，倫敦帝國(guó)理工學(xué)院，蘇黎世聯(lián)邦理工大學(xué)和慶應(yīng)義塾大學(xué)使用。

最近，除雙光子機(jī)器外，Nanoscribe還生產(chǎn)負(fù)性樹脂，稱為IP光樹脂。

Quantum X系統(tǒng)是在德國(guó)慕尼黑LASER World of Photonics 2019展會(huì)上發(fā)布的，專門用于制造衍射光學(xué)元件（DOE）。 這些微型光學(xué)器件用于材料的激光加工領(lǐng)域，因?yàn)镈OE可以精確地控制激光的路徑和“形狀”。 微光學(xué)還用于激光雷達(dá)掃描和基于激光的醫(yī)學(xué)治療。

制造DOE的最常見方法之一是基于集成電路的制造過(guò)程，其可能需要多達(dá)十二個(gè)步驟。 但是，使用Quantum X機(jī)器，DOE可以直接從CAD直接打印。 根據(jù)Nanoscribe的說(shuō)法，Quantum X將是微光學(xué)，小批量生產(chǎn)和研發(fā)的快速原型設(shè)計(jì)的理想解決方案。

納米3D打印

Nanoscribe成立于卡爾斯魯厄理工學(xué)院，現(xiàn)在在上海設(shè)有子公司，在美國(guó)設(shè)有辦事處。該公司在德國(guó)歷史最悠久，規(guī)模最大的光學(xué)系統(tǒng)制造商之一蔡司財(cái)務(wù)的支持。納米標(biāo)記系統(tǒng)基于雙光子吸收，這是一種分子被激發(fā)到更高能態(tài)的過(guò)程。為了使用雙光子工藝制造3D物體，使用含有單體和雙光子活性光引發(fā)劑的凝膠作為原料。將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體，其中吸收的光的強(qiáng)度最高。

Nanoscribe的Photonic Professional GT在研究中得到了廣泛的應(yīng)用，并在哈佛大學(xué)納米系統(tǒng)中心，加州理工學(xué)院，倫敦帝國(guó)理工學(xué)院，蘇黎世聯(lián)邦理工大學(xué)和慶應(yīng)義塾大學(xué)使用。最近，據(jù)報(bào)道，Nanoscribe還加入了MiLiQuant項(xiàng)目，并將利用其在光子技術(shù)方面的專業(yè)知識(shí)將量子技術(shù)推向工業(yè)水平。除雙光子機(jī)器外，Nanoscribe還生產(chǎn)負(fù)性樹脂，稱為IP光樹脂。

3D打印衍射光學(xué)

Quantum X系統(tǒng)是在慕尼黑2019年的LASER光子世界（A3.325展位）上推出的，專門用于制造衍射光學(xué)元件（DOE）。這些微型光學(xué)器件用于材料的激光加工領(lǐng)域，因?yàn)镈OE可以精確地控制激光的路徑和“形狀”。微光學(xué)還用于激光雷達(dá)掃描和基于激光的醫(yī)學(xué)治療。制造DOE的最常見方法之一是基于集成電路的制造過(guò)程，其可能需要多達(dá)十二個(gè)步驟。但是，使用Quantum X機(jī)器，DOE可以直接從CAD直接打印。Quantum X將是微光學(xué)，小批量生產(chǎn)和研發(fā)的快速原型設(shè)計(jì)的理想解決方案。

在Quantum X機(jī)器上打印的微透鏡陣列3D的SME圖像。圖像通過(guò)Nanoscribe。

技術(shù)規(guī)格

印刷技術(shù)雙光子灰度光刻（2GL）

最小XY尺寸160 ?- ?200 nm（取決于使用的光致抗蝕劑）

XY分辨率400-500 nm（取決于所用的光敏素）

最佳垂直步長(zhǎng)10 nm

掃描速度≤250mm / s

面積印刷速度為3mm2/ h，適用于衍射光學(xué)元件